Titanijske mete za prskanje visoke čistoće

Titanijske mete za prskanje visoke čistoćesu izvori raspršivanja koji stvaraju različite funkcionalne tanke filmove na supstratima magnetronskim raspršivanjem, višelučnim ionskim nanošenjem ili drugim vrstama sustava premaza pod odgovarajućim procesnim uvjetima. Jednostavno rečeno, ciljni materijal je ciljni materijal bombardiran nabijenim česticama velike brzine.

Koristi se u visokoenergetskom laserskom oružju. Kada laseri s različitim gustoćama snage, različitim izlaznim valnim oblicima i različitim valnim duljinama stupaju u interakciju s različitim ciljevima, proizvest će različita ubojstva i štete. posljedica. Na primjer: evaporacijski magnetron raspršivanje je premaz grijanjem evaporacijom, aluminijski film i tako dalje. Zamjenom različitih materijala meta (kao što su aluminij, bakar, nehrđajući čelik, titan, mete od nikla, itd.), mogu se dobiti različiti sustavi filmova (kao što su supertvrdi, otporni na habanje, antikorozivni legirani filmovi itd.).

Parametri

Značajke

1. Mala težina

2. Visoka specifična čvrstoća

3. Otpornost na koroziju

4. Otpornost na visoke i niske temperature

Prijave

★Brodogradnja ★Elektrolitička obrada ★Aerospace ★Kemijska industrija ★Medicinska oprema

pojedinosti

Izrađen od visokokvalitetnih sirovina, otporan na habanje i koroziju, dugotrajna upotreba

Nema pukotina od ljuštenja na površini, nema mrlja od ulja, glatka i čista bočna površina

Potpune specifikacije, proizvoljno rezanje, podrška za nestandardnu ​​prilagodbu

Čistoća ciljanog materijala ima veliki učinak na performanse filma. Čistoća je jedan od ciljanih pokazatelja uspješnosti.

Čistoća

Čistoća mete jedan je od glavnih pokazatelja učinkovitosti mete jer čistoća mete uvelike utječe na izvedbu filma. Međutim, u stvarnim primjenama zahtjevi za čistoćom ciljanog materijala nisu isti. Na primjer, s brzim razvojem mikroelektroničke industrije, veličina silicijske pločice je proširena sa 6", 8" na 12", širina ožičenja smanjena je sa 0.5 um na 0. 25 um, 0.18 um i 0.13 um. Prethodno je ciljna čistoća bila 99,995 posto.

Sadržaj nečistoća

Glavni izvor taloženog filma je kisik i vlaga ciljnih krutina i pora. Mete za različite primjene imaju različite zahtjeve za različite razine nečistoća. Na primjer, mete od čistog aluminija i aluminijskih legura koje se koriste u industriji poluvodiča imaju posebne zahtjeve za sadržaj alkalnih metala i radioaktivnih elemenata.

Gustoća

Kako bi se smanjile pore ciljnih krutih tvari i poboljšala izvedba raspršenih filmova, mete obično moraju biti gušće. Ciljana gustoća ne utječe samo na brzinu raspršivanja nego i na električna i optička svojstva filma. Što je veća ciljna gustoća, to je bolja izvedba filma. Osim toga, kada se gustoća i intenzitet cilja povećaju, cilj može izdržati toplinski stres tijekom raspršivanja. Gustoća je jedan od ciljanih pokazatelja izvedbe.

Veličina zrna i raspodjela veličina

Obično je meta polikristalna, a veličina čestica može biti reda veličine od mikrometara do milimetara. U slučaju iste mete, brzina raspršivanja fino zrnate mete je brža od brzine raspršivanja krupnozrnate mete, dok taloženje raspršene čestice manje veličine (ujednačena distribucija) mete ima jednoliku raspodjelu debljine (jednolika) . Distribucija.

Ako ste zainteresirani zamete za raspršivanje od titana visoke čistoće, slobodno nas kontaktirajte:

E-mail:zhangjixia@bjygti.com

Početna stranica:http://www.toptitech.com

Popularni tagovi: mete za raspršivanje od titana visoke čistoće, Kina, dobavljači, proizvođači, prilagođeno, uporaba, cjenik, za prodaju, na zalihama, besplatni uzorak, porozni materijal